ApertotedTermine scaduto
Gara a procedura aperta ai sensi dell’art. 71 del D.Lgs. 36/2023 per la fornitura di un sistema per la rimozione ionica reattiva assistita da plasma accoppiato induttivamente (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching, ICP-RIE)
Vedi il bando ufficialeStazione appaltante
Istituto Italiano di Tecnologia
Valore stimato
—
Termine di presentazione
2 ott 2026, 00:59
Luogo
Genova
Dati del bando
- Pubblicazione:
- 1 gen 2026
- Paese:
- IT
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